发表日期:2002年04期 出版:《半导体学报 主管单位:中国科学院半导体研究所;中国电子学会 作者:张佩君,黄庆安 页数:5页(依默认发送格式:PDF计算) PDF编号:PDF9BDTX2002040200 可选格式:Word、ePUB、PPT(课件用途) 下载次数:309 论文引用次数:10

根据各向异性腐蚀特点 ,在硅各向异性腐蚀速率图基础上 ,提出算法 ,利用数学软件 MATL AB模拟了几种简单掩膜图形的腐蚀过程 .程序从二维掩膜描述出发 ,找到相关晶面 ,产生动态的三维几何结构的输出 .并推导出凸角补偿时补偿条的相关尺寸 .其结果对 MEMS加工有一定参考价值

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