作者： 单位：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 出版：《光机电信息》2000年第06期 页数：1页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFGJDX2000060490 DOC编号：DOCGJDX2000060499 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 为测量膜厚，包括透明和半透明材料测量而设计的膜厚测量装置(TFTM)，比类似的CCD系统更具有优势.由Spectra International公司提供的TFTM能够测量CCD传感器不能测量的更薄的薄膜.以2nm的膜厚分辨率，该系统在可&#177；1%或0.4nm的内提高重复精度，并且可在现场使用(如在真空室内)或作为独立的装置使用.膜厚测量可以用来计算吸收和非吸收材料的折射率，并能同时测量多层膜.也可以用来测量未知厚度或不确定组分的薄膜.该系统能测量介质膜，如氮化物，氧化硅，聚合物涂层和薄膜吸收材料，例如，硅，多晶硅，非晶硅及其它半导体材料.该装置性能先进，在加工方面会有广范的应用，包括半导体芯片，太阳电池，平板显示器和光学镀膜等.(No.45

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