《四电极电化学腐蚀在微压传感器制造中的应用》PDF+DOC
作者:乔文华,张纯棣,张治国
单位:沈阳仪表科学研究院有限公司
出版:《仪表技术与传感器》2000年第08期
页数:2页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFYBJS2000080040
DOC编号:DOCYBJS2000080049
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在研究四电极电化学腐蚀工艺过程中 ,考虑了与扩散硅压力传感器芯片平面工艺的兼容性 ,使得该工艺用于微压传感器的制造。微压传感器采用梁膜结构设计 ,膜区厚度为 1 0 μm ,制造出的微压传感器灵敏度为 5 0mV/ 3kPa/ 1mA ,端点法非线性为 0 .5 %。
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