《对痕量甲醛气体敏感的SnO_2-NiO纳米材料的X射线光电子谱研究》PDF+DOC
作者:吕品,张绍成,唐祯安
单位:辽宁大学
出版:《辽宁大学学报(自然科学版)》2016年第01期
页数:5页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFLNDZ2016010070
DOC编号:DOCLNDZ2016010079
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本文研究了对痕量甲醛气体敏感的SnO_2-NiO纳米材料的X射线光电子谱(XPS).通过对XPS O1s和Sn3d5/2分峰的分析证实了SnO_2-NiO纳米材料是氧化态.在SnO_2-NiO纳米材料的表面观察到了SnO_2、SnO、NiO和Ni_2O_3,而以SnO_2为主要成分,NiO含量很低.由于掺杂了低浓度NiO使SnO_2-NiO纳米材料表面吸附氧的数量极大地增加,从而增加了材料表面反应活性点,进而使SnO_2-NiO纳米材料对痕量甲醛(HCHO)气体的气敏性能大大提高。
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