作者：李宏业,饶斌裕,赵晓帆,胡琪浩,王蒙,王泽锋 单位：中国科学院上海光学精密机械研究所 出版：《激光与光电子学进展》2020年第11期 页数：18页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFJGDJ2020110200 DOC编号：DOCJGDJ2020110209 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 光纤光栅具有抗电磁干扰、耐腐蚀、可塑性强、体积小、质量轻、与光纤系统天然兼容等特点，已被广泛应用于光纤传感、光纤通信、光纤激光器等领域，并发挥了重要作用。目前，常见的光纤光栅制作方法主要有紫外曝光法、CO2激光刻写和飞秒激光刻写。飞秒激光刻写技术的出现大大简化了光纤光栅制作流程，由于其成栅机理不同于常见的紫外曝光法，无需对光纤进行载氢处理，非常有利于在超大芯径光纤上制备高性能光栅。根据是否使用相位模板，基于飞秒的光栅制备总体分为直写和相位模板辅助刻写两种方式。本文从刻写方式的角度对国内外基于飞秒激光的光纤光栅研制情况进行了全面综述，详细总结分析了各种刻写方式的特点与光栅的应用场合，指出其在分布式光纤传感、光纤通信波分复用、多波长激光器、大功率光纤激光器等方面具有潜在的重要应用价值和广泛应用前景。

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