作者：张明亮,韩国威,刘庆,李艳,杨富华,王晓东 单位：中国科学院兰州化学物理研究所;中国科学院计划财务局;中国科学院兰州分院分析测试中心 出版：《分析测试技术与仪器》2020年第03期 页数：9页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFFXCQ2020030030 DOC编号：DOCFXCQ2020030039 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 在完全掌握瓦里安300XP离子注入机各部件的工作原理后，将原离子源供电系统中500 W电流源和450 W起弧电源升级为1 500 W电流源和1 500 W起弧电源，并集成到当前系统中.将现有不稳定的气体流量、离子源电源、分析器、源磁场和吸极高压塑料光纤隔离控制线路，升级成多通道光纤通讯光端机隔离控制系统.将一个10 cm进样终端改造成15 cm的样品卡盘，并开发了一套独立控制剂量监测系统.改造后，硼最大束流超过150μA，且可调节. 15 cm圆片的片内及片间电阻不均匀性小于3.5%.利用大束流硼离子注入制备浓硼掺杂单晶硅结构层，应用到微电子机械系统压力传感器、热电器件以及纳米谐振子器件中。

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