《CMOS图像传感器抗电离辐射加固技术研究》PDF+DOC
作者:吕玉冰,吴琼瑶,刘昌举,李明,周亚军,刘戈扬
单位:中国电子科技集团第四十四研究所
出版:《半导体光电》2020年第03期
页数:5页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFBDTG2020030070
DOC编号:DOCBDTG2020030079
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太空环境中的电离辐射会导致CMOS图像传感器性能退化,甚至造成永久性损毁。文章对CMOS图像传感器抗电离辐射加固技术进行了研究,从版图设计、电路设计等方面提出相应的抗辐射策略,并进行了总剂量和单粒子试验。试验结果表明,采用抗辐射加固技术设计制作的CMOS图像传感器具备抗总剂量和单粒子辐射能力,当总剂量达到100krad(Si)、单粒子辐射总注量达到1×;10~7 p/cm~2时,器件的关键指标变化符合预期要求。
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