《基于磁屏蔽原理改善LVDT静态性能的结构研究》PDF+DOC
作者:闫飞,尹明富,孙会来,赵镇宏
单位:大连组合机床研究所:中国机械工程学会生产工程分会
出版:《组合机床与自动化加工技术》2020年第02期
页数:5页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFZHJC2020020020
DOC编号:DOCZHJC2020020029
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线性差动变压器式位移传感器(LVDT)广泛应用各种直线测量系统中,针对其存在的线性度差、灵敏度不高的问题,首次基于磁屏蔽原理提出一种三层端盖的新结构,其中外侧端盖是磁屏蔽端盖。利用有限元的方法在ANSYS Maxwell建立LVDT仿真模型,在Maxwell Circuit Editor设计外部激励电路,进行联合仿真,通过静态和瞬态磁场的仿真研究。结果分析表明该新结构能将最大线性度从1.45%降低到0.13%,灵敏度提升20mv/mm。证明该结构能有效减少远离初级线圈两端的漏磁通,可以有效改善LVDT的线性度,同时灵敏度也有相应的提升。
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