作者:苗涛,张军,邹春太 单位:中国科技产业化促进会 出版:《中国高新科技》2020年第02期 页数:3页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFGXKE2020020200 DOC编号:DOCGXKE2020020209 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 文章设计了WEE系统,用于晶圆的边缘曝光工艺需求。首先进行了WEE系统的硬件设计;运用最小二乘法计算得到晶圆的圆心,运用几何旋转-平移变换获得晶圆切口位置角度;构建运动控制器的正逆解运动学方程,实现曝光轨迹的圆弧、直线运动控制;通过对晶圆涂胶、曝光、烘烤、显影等工艺过程,验证晶圆边缘曝光工艺,实验结果验证了本WEE系统设计达到了标准工艺指标。

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