作者：马文锋,胡明,袁琳,李昌青,魏玉龙 单位：天津理工大学 出版：《天津理工大学学报》2016年第04期 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFTEAR2016040060 DOC编号：DOCTEAR2016040069 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 利用电化学方法在N型0.01Ω&#183；cm单晶抛光硅片上制备纳米有序多孔硅，研究电流密度对其形貌及光学性能的影响；并通过对硅基体进行预处理达到消除多孔硅表面小孔硅的目的.结果表明，随着电流密度的增大，多孔硅的孔径、孔隙率以及光学厚度均增大.给经过预处理的硅基体施加75 m A/cm2的电流密度，多孔硅的表面孔径达到50 nm，与体孔径大小一致；在光学检测中对酒精溶液表现出良好的敏感性，检测浓度能够低至5&#215；10-5 mol/L。

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