作者：史海军,叶红波 单位：上海贝岭股份有限公司 出版：《集成电路应用》2020年第02期 页数：3页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFJCDL2020020120 DOC编号：DOCJCDL2020020129 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 对CMOS图像传感器加工彩色滤镜和微透镜工艺进行深入研究，总结出整个滤镜和微透镜工艺的流程及加工方法。虽然其工艺具有相当的难度，然而平面化和微透镜技术是先进色彩处理技术必须解决和实现的关键问题，所以彩色滤镜的工艺继续开发和研究是非常有积极意义的。

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