作者：玛丽娅,李豫东,郭旗,刘昌举,文林,汪波 单位：中国物理学会发光分会;中科院长春光机所 出版：《发光学报》2017年第02期 页数：6页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFFGXB2017020090 DOC编号：DOCFGXB2017020099 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 对某国产CMOS图像传感器进行了两种不同能量的电子辐照试验，在辐照前后及退火过程中采用离线测量方法，考察了暗信号、饱和电压、光谱响应特性等参数，分析了器件的电子辐照效应损伤机理。结果表明：暗信号和暗信号非均匀性都随着辐照剂量的增加及高温退火时间的延长而增大；饱和电压在两种能量电子辐照下均出现较大幅度的减小，并在高温退火过程中有所恢复；光谱响应特性无特别明显变化。经分析，暗电流、饱和电压的变化主要由辐照诱发的氧化物陷阱电荷导致的光敏二极管耗尽层展宽和界面陷阱电荷密度增大导致产生-复合中心的增加所引起。

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