作者：蒋雪梅,俎喜红,张政,黄海亮,易国斌 单位：重庆西南信息有限公司 出版：《材料导报》2013年第15期 页数：7页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFCLDB2013150280 DOC编号：DOCCLDB2013150289 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 综述了多种图案化制备ZnO纳米线阵列的技术，包括电子束光刻技术、纳米球蚀刻技术、激光干涉光刻技术、纳米压印技术和嵌段共聚物蚀刻技术等。介绍了图案化ZnO纳米线阵列在传感器、太阳能电池和UV检测器等功能器件中的应用进展，分析了图案化ZnO纳米线阵列制备与应用中的优点、意义及存在的问题，并展望了其未来发展趋势。

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