《真空环境下飞秒激光制备的微构造硅的吸收和退火特性》PDF+DOC

在真空环境下利用飞秒激光制备的“黑硅”材料，其形貌与SF6气氛中制备的“黑硅”材料有着很大的区别。为了研究这种真空环境下制备的微构造硅的相关光学特性，通过改变入射脉冲能量研究其峰值变化以及吸收特性，发现当峰值达到一定高度时其对200~2500nm波段的光波有95%左右的吸收效率，这与SF6气氛中制备的微构造硅的吸收效率不相上下。最后对两种环境下制备的“黑硅”样品进行退火处理，发现真空环境下制备的“黑硅”材料比SF6气氛中制备的“黑硅”样品具有更好的耐退火性。这些结果对于利用真空环境下制备的微构造硅制作红外传感器具有重要意义。

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