作者：郑丹 单位：中国兵器工业集团新技术推广研究所 出版：《新技术新工艺》2014年第02期 页数：3页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFXJXG2014020290 DOC编号：DOCXJXG2014020299 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 在p型(100)单晶Si基衬底上，利用磁控溅射设备完成直流溅射Mo/Ti布拉格反射层和射频反应溅射AlN压电层，用光刻微加工工艺设计了不同谐振面积与电极图案的Ti/Au上电极，在优化工艺条件下制备了氮化铝基体声波质量传感器，比较分析了不同电极图案和谐振面积对传感器性能的影响。研究表明，电极图案相同时，谐振面积为10 000(100&#215；100)μm2的器件电学性能最好，谐振面积相同时，电极图案为圆形的损耗最小；内角为直角的正方形损耗最大，内角为钝角的五边形损耗居中。

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