作者：温建新,张远,曾夕 单位：上海贝岭股份有限公司 出版：《集成电路应用》2018年第05期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFJCDL2018050080 DOC编号：DOCJCDL2018050089 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 研究了CMOS像素阵列中的成像不一致性主要成因，并针对像素和读出电路的不一致性提出了一种应用于CIS的CMOS像素阵列校正系统，介绍了基于此校正系统的具体校正方法。基于HL 55 nm工艺完成芯片设计和平台测试，在不同温度条件下，验证了校正系统的校准效果。

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