《超大口径光学制造的静压支撑系统集成与控制》PDF+DOC

在超大口径光学制造中，镜体背部空间狭小，转台承载能力有限，要求光学制造的支撑结构尽量简单；镜体承受加工载荷且弥漫加工磨料，要求支撑系统对加工载荷和环境不敏感；此外，为便于在线检测，缩短检测周期，还要求支撑系统具有较高的调整精度和稳定性。设计了一种均力型静压支撑系统，先测试了单个支撑的均力性及刚度，预测了压印效应的大小；随后阐述了支撑系统的控制方法；最后实现了系统集成及其图形用户界面(GUI)界面操作。将该系统用于2m Si C反射镜的光学加工，可将压印效应均方根(RMS)值控制到13.1 nm≈λ/48，满足加工需要；用于立式检测，系统对镜体倾斜和俯仰角可监测到的角度范围为0.34″~0.48&#176；，以及沿Z方向&#177；5 mm的运动；对应曲率中心在XY平面的调节范围d R最大值50 mm，最小值为10μm，与电荷耦合器件(CCD)像元尺寸接近，满足立式检测需要。对目前具有重大需求的2~4 m量级反射镜而言，该系统具有较好的适用性。

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