《磁控溅射法制备NiCr/NiSi薄膜热电偶温度传感器》PDF+DOC
作者:贾颖,孙宝元,曾其勇,徐静
单位:沈阳仪表科学研究院有限公司
出版:《仪表技术与传感器》2006年第02期
页数:3页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFYBJS2006020000
DOC编号:DOCYBJS2006020009
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介绍了NiCr/NiSi薄膜热电偶制作方法与过程。与多弧离子镀法相比,采用磁控溅射法镀制的热电偶薄膜成分与靶材接近,膜层致密均匀、平整光滑,临界厚度薄。对研制的NiCr/NiSi薄膜热电偶进行了静态标定与动态标定,薄膜热电偶的灵敏度为40.1μV/℃,线性误差不大于0.75%,时间常数小于0.35 ms.最后将薄膜热电偶温度传感器用于化爆材料模拟切削试验。
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