作者：任森,苑伟政,邓进军 单位：中国微米纳米技术学会;东南大学 出版：《传感技术学报》2006年第05期 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFCGJS2006051440 DOC编号：DOCCGJS2006051449 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 根据正方形膜片的变形和应力分布情况，提出了一种硅微谐振式压力传感器敏感膜片的设计方法，设计了两种正方形间接连接式压力敏感膜片.在相同的膜片面积下，新膜片与原有矩形间接连接式压力敏感膜片性能相近，为内部谐振器的多样化提供了基础.最后，就压力敏感膜片的工艺设计进行了探讨，认为采用正方形凸角补偿结构的〈110〉硅岛和采用边长补偿的〈100〉硅岛最适合间接连接式压力敏感膜片。

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