《高温压力传感器用多晶硅-AlN-硅单晶基片》PDF+DOC
作者:李辉,孙以材,潘国峰,李金,李鹏
单位:沈阳仪表科学研究院有限公司
出版:《仪表技术与传感器》2007年第05期
页数:4页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFYBJS2007050030
DOC编号:DOCYBJS2007050039
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论述纳米多晶硅-氮化铝隔膜-硅单晶衬底基片的研制。此基片可供制造高温力学量传感器。其要点是在力敏电阻条与硅弹性膜之间利用AlN进行绝缘隔离。AlN与硅的热膨胀系数接近,附着力高,耐击穿性好。又具有高化学稳定性,高热导率,对于压力传感器的电桥散热特别有利,可解决压力传感器启动时的零点时漂。由于无P-N结,力敏电阻无反向漏电,因此用此基片制造的力学量传感器的特性好(零点电漂移及热漂移小、非线性小)。力敏电阻条由纳米多晶硅构成。利用在600℃退火Al诱导晶化能使溅射得到的非晶硅转化成纳米多晶硅。
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