作者:刘金刚,袁向文,尹志华,左立辉,杨士勇 单位:中国电子科技集团公司第五十八研究所 出版:《电子与封装》2009年第01期 页数:6页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFDYFZ2009010070 DOC编号:DOCDYFZ2009010079 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 正性光敏聚酰亚胺(p-PSPI)是一类重要的集成电路(IC)封装材料,广泛用于IC器件的应力缓冲、表面钝化以及层间绝缘。与传统的负性光敏聚酰亚胺(n-PSPI)相比,p-PSPI无论在光刻精度还是环境友好性方面均表现出了更为优良的品质。文章综述了国内外p-PSPI电子封装材料的最新研究与应用进展状况。系统阐述了p-PSPI的光化学机理。对目前商业化p-PSPI产品的特性、在微电子以及光电子领域的应用和未来发展趋势进行了介绍。最后对国内高性能p-PSPI电子材料的研发工作提出了建议。

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