作者：何德勇,章竹君,何树华 单位：上海材料研究所 出版：《》 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFLHJH2009090060 DOC编号：DOCLHJH2009090069 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 试验中，以双嘧达莫为模板分子，α-甲基丙烯酸为功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂，氯仿为溶剂，合成了双嘧达莫分子印迹聚合物。将此聚合物填充在长8 mm，宽1 mm，深0.5 mm的微流控芯片检测池中作为分子识别物质，设计了一种新型的化学发光微流控传感器芯片测定双嘧达莫。双嘧达莫被此聚合物在线吸附并识别，被吸附的双嘧达莫与鲁米诺和铁氰化钾混合溶液反应并导致其化学发光强度增大。该传感器对双嘧达莫响应范围为1.0～20μg&#183；L~(-1)，检出限(3σ)为0.5μg&#183；L~(-1)，对10μg&#183；L~(-1)双嘧达莫连续平行测定7次，其相对标准偏差为4.6%。

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