作者：戴玉堂,徐刚,崔健磊 单位：天津理工大学 出版：《光电子·激光》2010年第02期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFGDZJ2010020100 DOC编号：DOCGDZJ2010020109 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 研究了157 nm激光刻蚀光纤三维微结构的基本性能。实验结果表明，石英材料的刻蚀率随脉冲数的增加呈下降的趋势，大光斑的刻蚀率高于同等条件下小光斑的刻蚀率。为提高微孔加工的质量，脉冲频率不宜高于25 Hz。

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