作者：黄翀,李成,杨玮枫,欧阳艳东,吴永俊 单位：信息产业部南京电子器件研究所 出版：《光电子技术》2014年第04期 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFGDJS2014040120 DOC编号：DOCGDJS2014040129 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 设计光学薄膜改善ITO图案，匹配出各个膜层合适的物理厚度，采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比，证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题，在可见光范围内还可以使透过率变均匀，提高显示效果。

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