作者：周庆奎,刘玄博,李霖 单位：中国电子科技集团第四十五研究所 出版：《电子工业专用设备》2010年第11期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFDGZS2010110020 DOC编号：DOCDGZS2010110029 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术，找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度。找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行，实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后，基片上的各点到掩模版的距离相同，从而保证基片上图形的一致性，提高设备的分辨率。找平过程的控制主要在对找平的判断、压力采集反馈、找平压力的控制等方面。

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