《基于磁控溅射的金属氧化物气敏薄膜的研究进展》PDF+DOC
作者:张茹,胡季帆,韩周祥,赵玛,吴占雷,魏剑英
单位:中国机械工业集团公司;沈阳真空技术研究所
出版:《真空》2010年第05期
页数:6页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFZKZK2010050160
DOC编号:DOCZKZK2010050169
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气体传感器的应用越来越广泛,对气敏材料的研究也越来越深入。磁控溅射法是生产气敏薄膜的一种主要方法,本文重点介绍了用磁控溅射法制备的几种金属氧化物薄膜(SnO2、WO3、ZnO、TiO2、In2O3和NiO等)的气敏性能及其研究进展,对其它薄膜做了简要概述,并提出了目前在气敏薄膜研究中存在的问题。
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