《CCD抗晕结构的设计和制作》PDF+DOC
作者:钟四成,程顺昌,王晓强
单位:中国电子科技集团第四十四研究所
出版:《半导体光电》2011年第03期
页数:4页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFBDTG2011030050
DOC编号:DOCBDTG2011030059
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强光照射时,CCD图像传感器摄取的图像中会出现光晕(blooming)和弥散(smear)现象,严重影响成像质量。文章介绍了一种能够抑制这些光晕现象的抗晕CCD,详细阐述了其抗晕结构的设计和制作方法,采用该方法制作的CCD能够达到500倍的抗晕能力。
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