作者:黄学艺,余会成,韦贻春,李浩,雷福厚,谭学才,米丹丹,吴海鹰 单位:北京有色金属研究总院;中国分析测试协会 出版:《分析试验室》2015年第05期 页数:5页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFFXSY2015050050 DOC编号:DOCFXSY2015050059 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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  • 先将合成的纳米镍修饰裸玻碳电极,再在修饰电极表面热聚合一种以甲基丙烯酸为功能单体、马来松香丙烯酸乙二醇酯为交联剂、纳米氧化铜掺杂的异戊巴比妥分子印迹敏感膜。研究了印迹电极的最佳成膜条件及其最佳实验条件。采用循环伏安法(CV)和电化学交流阻抗法(EIS)对印迹传感器的电化学性能进行表征。使用红外光谱和扫描电镜分别探究此印迹敏感膜的结构及表面形貌。在最佳实验条件下,以K3Fe(CN)6为分子探针的差分脉冲伏安法(DPV)峰电流响应值与异戊巴比妥的浓度在6.5×10-8~1.8×10-4mol/L范围内呈现良好的线性关系(线性相关系数R=0.9986);检出限为1.1×10-9mol/L(S/N=3)。传感器能用于猪肉中残留异戊巴比妥的检测,加标回收率在96.5%~103.2%之间。

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