作者：罗吉,庄须叶,倪祖高,姚军 单位：中国电子科技集团公司第十三研究所 出版：《微纳电子技术》2011年第06期 页数：9页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFBDTQ2011060060 DOC编号：DOCBDTQ2011060069 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 对光纤消逝场理论进行了详细分析，阐述了影响光纤消逝场传感器灵敏度的一些关键因素，并对几种常见的光纤消逝场传感光纤的优缺点进行了比较，主要包括圆柱形、D形、U形、锥形以及光子晶体光纤等结构的传感光纤。通过分析各种传感结构的光纤消逝场传感器的应用实例，归纳总结了提高光纤消逝场传感器传感灵敏度的一般方法，包括在传感光纤表面镀薄敏感膜或者金属膜、优化传感光纤结构、进行荧光标记以及用纳米粒子修饰等一系列措施。

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