《应用于三维封装中的硅通孔技术》PDF+DOC
作者:邓小军,曹正州
单位:中国电子科技集团公司第五十八研究所
出版:《电子与封装》2012年第09期
页数:6页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFDYFZ2012090060
DOC编号:DOCDYFZ2012090069
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随着集成电路日新月异的发展,当半导体器件工艺进展到纳米级别后,传统的二维领域封装已渐渐不能满足电路高性能、低功耗与高可靠性的要求。为解决这一问题,三维封装成为了未来封装发展的主流。文章简要介绍了三维封装的工艺流程,并重点介绍了硅通孔技术的现阶段在CSP领域的应用,以及其未来的发展方向。
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