作者：王海成,张恩,王立锦,于广华 单位：国家仪表功能材料工程技术研究中心;重庆仪表材料研究所;中国仪器仪表学会仪表材料学会 出版：《功能材料》2012年第09期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFGNCL2012090330 DOC编号：DOCGNCL2012090339 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 采用化学湿法沉积制备了Co-Ni-P磁性薄膜，研究了工艺条件对其磁性的影响，并对其作为磁旋转编码器磁鼓记录介质的记录特性进行了分析。研究结果表明，薄膜矫顽力和矩形比随施镀时间增加而下降。当施镀时间为3min时，Co-Ni-P薄膜矫顽力可达42506.4A/m，矩形比为0.55。X射线衍射及扫描电镜结果表明，随施镀时间增加，薄膜矫顽力下降，晶粒尺寸变大，并发生明显的择优取向。将化学沉积Co-Ni-P薄膜应用于磁旋转编码器的磁鼓记录介质，记录特性测试结果表明，输出信号良好，脉冲计数完整，波形良好，可完整写入2048对磁极。化学沉积Co-Ni-P磁性薄膜适合于高精度、高分辨率的磁旋转编码器的磁鼓记录材料。

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