作者：袁明权,雷强,王雄 单位：中国工程物理研究院;中国核学会;四川省核学会 出版：《强激光与粒子束》2017年第10期 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFQJGY2017100210 DOC编号：DOCQJGY2017100219 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 提出了一种感测单元不直接接触流场的微剪切应力传感器结构，详细阐述了其感测单元MEMS制作工艺。采用热氧化硅掩膜方法解决了硅深刻蚀的选择比问题；优化后的硅深刻蚀工艺参数：刻蚀功率1600W、低频(LF)功率100W，SF6流量360cm3/min，C4F8流量300cm3/min，O2流量300cm3/min。采用Cr/Au掩膜，30℃恒温低浓度HF溶液解决了玻璃浅槽腐蚀深度控制问题；喷淋腐蚀和基片旋转等措施提高了玻璃浅槽腐蚀表面质量。采用上述MEMS工艺制作了微剪切应力传感器样品，样品测试结果表明：弹性悬梁长度和宽度误差均在2μm以内、玻璃浅槽深度误差在0.03μm以内、静态电容误差在0.2pF以内，满足了设计要求。

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