作者：许卓,杨杰,王成,陈东红,丑修建 单位：中国电子科技集团公司第四十九研究所 出版：《传感器与微系统》2015年第10期 页数：3页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFCGQJ2015100200 DOC编号：DOCCGQJ2015100209 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 针对解决大量程纳米位移精度测量难度大的问题，提出了新型纳米时栅传感器。就大量程、高精度位移传感器的亚微米精度加工而言，宏观尺度范围内周期性结构单元一致性制造是保证位移传感器可靠性和高精度测量的关键所在。对上述提出的问题，采用高精度自动拼接曝光技术加工并实现了大量程标尺的图形转移，结合微纳加工方式实现时栅传感器亚微米级精度的制造。通过实验验证所加工出的样机能够达到预期目标，并且测量误差峰值在500 nm以内。

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