《新型智能电化学微加工系统的研究》PDF+DOC
作者:刘品宽,孙立宁,荣伟彬,蒋利民,田昭武
单位:中国科学技术信息研究所
出版:《高技术通讯》2002年第06期
页数:5页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFGJSX2002060170
DOC编号:DOCGJSX2002060179
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约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 ,同时在铜板上也成功进行了微孔刻蚀加工
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