《纳米硅薄膜材料在场发射压力传感器研制中的应用》PDF+DOC
作者:廖波,谢君堂,仲顺安,王静静,张大成,李婷,郝一龙,罗葵
单位:中国科学院;国家自然科学基金委员会
出版:《中国科学:技术科学》2003年第03期
页数:4页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFJEXK2003030020
DOC编号:DOCJEXK2003030029
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设计研制了一种基于量子隧道效应机制的场发射压力传感器原型器件,用CVD技术制备了粒径为3~9 nm,厚度为30~40 nm的纳米硅薄膜,并同时把这种低维材料引入到传感器阴极发射尖锥的制作,形成纳米硅薄膜为实体的发射体结构.用HREM及TED分析了纳米硅态的显微特性,用场发射扫描电子显微镜SEM分析了发射体及阵列的微观结构,用HP4145B晶体管参数测试仪考察了传感器件的场发射特性.实验结果表明,当外加电场为5.6×;103V/m时,器件有效区域发射电流密度可达53.5A/m2。
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