作者：雷绍充,邵志标 单位：北京方略信息科技有限公司 出版：《国外电子测量技术》2004年第05期 页数：8页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFGWCL2004050000 DOC编号：DOCGWCL2004050009 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 基于稳态电流测试方法的IDDQ 测试 ，因其故障覆盖率高 ，在集成电路测试中得以广泛应用。IDDQ测试的概念比较简单 ，但实现并不容易 ，特别是当今SOC和深亚微米技术的影响使得其实现更为复杂 ，有必要作以全面、系统化的研究。本文的第 1节概括地总结了IDDQ测试的发展和目前的现状 ，对IDDQ测试广泛应用的原因作了阐述。第 2节论述的是测试机理 ，同时用一些重要的术语和数据来说明深亚微米等技术对IDDQ测试的影响。第 3节研究的是适于IDDQ测试的各种电流测量方法和结构。第 4节深入地研究了CMOS电路中的物理缺陷及其电流测试方法 ，并用大量的图文数据作以详细说明。第 5节讨论的是IDDQ测试的测试图形生成方法。第 6节对深亚微米技术对IDDQ测试的影响以及测试中要注意的问题作了说明。

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