作者：杨富,黄伟,张彬,楚晓亮,刘志国,蔡邦维 单位：西南技术物理研究所 出版：《激光技术》2004年第03期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFJGJS2004030090 DOC编号：DOCJGJS2004030099 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 介绍了光学薄膜温度场的基本理论 ，利用交替隐型技术 ，对 10 .6 μm激光辐照下介质薄膜的温度场分布进行了数值模拟和理论分析。在此基础上 ，利用夏克 哈特曼波前传感器对介质基底样品、不同厚度的介质单层膜样品以及不同膜系的YbF3 /ZnSe介质多层膜样品在 10 .6 μmCO2 激光辐照下的热畸变进行了实验研究。研究结果表明 ，激光辐照下光学薄膜样品的温度场分布与辐照激光的光场分布、激光功率以及激光的辐照时间等因素有关。对于 10 .6 μm激光而言 ，Ge最适宜做基底材料。

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