作者： 单位：上海贝岭股份有限公司 出版：《集成电路应用》2004年第10期 页数：1页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFJCDL2004100360 DOC编号：DOCJCDL2004100369 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 目前集成电路技术发展非常迅速，我国国有资金和技术等方面的不足，同国外的差距还很大，国外集成电路的主流工艺正由0.35μm向0.18μm推进，而我国还是在1μm～3μm的工艺线上占主导地位，在未来的10～20年内，我国很难在集成电路制造

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