作者：史东强,郑梁,秦会斌 单位：杭州电子科技大学 出版：《杭州电子科技大学学报(自然科学版)》2005年第06期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFHXDY2005060020 DOC编号：DOCHXDY2005060029 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 镍铁基合金薄膜是各向异性磁电阻传感器常用的传感材料，基于光刻工艺的弱磁场传感器的灵敏度与传感头的图形设计有关，传感头磁电阻图形的优化设计可以使薄膜具有更好的各向异性磁电阻效应。在研究了基于光刻工艺的弱磁场传感器基础上，为了提高弱磁场的测试灵敏度，结合具体的光刻工艺对传感头的磁电阻图形作了优化设计。结合对具体的材料分析阐述了设计原理，给出了设计对灵敏度和输出产生的影响。

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