作者:方小坤,林晓春,安毓英 单位:中国航天科工集团公司第三研究院第八三五八研究所 出版:《红外与激光工程》2006年第S1期 页数:1页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFHWYJ2006S10620 DOC编号:DOCHWYJ2006S10629 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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  • 薄膜生长过程中薄膜应力的检测已引起国内外广泛的关注和重视.文中介绍了一种光学和电子学结合的方法,建立了基于多光束光学传感器和光电检测电路以检测薄膜应力的装置,通过对反射光光点间距变化的检测,可以实时得到应力的信息.它可进行各种单晶、多晶和非晶结构材料沉积过程的现场应力测量,灵敏度优于2.5×106 Pa,精度优于5%.该方案具有结构简单、测量速度快、适应性强等特点,与计算机自动控制系统相结合,可以应用于生产线的薄膜生长过程控制检测。

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