作者：乌李瑛,瞿敏妮,付学成,田苗,刘民,李进喜,程秀兰 单位：中国电子科技集团第四十四研究所 出版：《半导体光电》2020年第05期 页数：8页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFBDTG2020050020 DOC编号：DOCBDTG2020050029 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 文章综述了微透镜阵列制备技术的最新研究进展，并将这些制备方法分为直接法和间接法进行了对比分析。回顾了微透镜在光场成像应用中的研究进展，指出目前该领域的研究重点是光场相机设计的新思路及提高分辨率的相应模型算法。

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