作者:李建昌,邵思佳,杨贻谋 单位:中国机械工业集团公司;沈阳真空技术研究所 出版:《真空》2016年第01期 页数:7页  (PDF与DOC格式可能不同) PDF编号:PDFZKZK2016010010 DOC编号:DOCZKZK2016010019 下载格式:PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
  • 本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。按结构可分为单室、双室和多室真空卷绕系统,后两者可解决开卷放气问题并分别控制卷绕和镀膜室各自真空度。卷绕张力控制分锥度、间接和直接控制模型,锥度控制模型可解决薄膜褶皱和径向力分布不均的问题;间接张力控制无需传感器,可用内置张力控制模块的矢量变频器代替;直接张力控制通过张力传感器精确测量张力值,但需惯性矩和角速度等多种参数。真空卷绕镀膜主要有真空蒸发、磁控溅射等方式,可用于制备新型高折射率薄膜、石墨烯等纳米材料和柔性太阳能电池等半导体器件。针对真空卷绕镀膜技术研究现状及向产业化过渡存在的问题,最后作了简要分析与展望。

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