《高纯氧化铝中痕量元素的直接光谱分析——几种气氛下直流电弧中谱线的轴向强度分布研究》PDF+DOC
作者:梁洞泉
单位:中国化学会;中国科学院长春应用化学研究所
出版:《》
页数:3页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFFXHX1980040090
DOC编号:DOCFXHX1980040099
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纯铝中杂质的光谱分析,一般灵敏度为1×;10~(-3)—1×;10~(-2)%。采用化学分离富集的化学光谱法虽可把灵敏度提高到5×;10~(-6)—1×;10~(-2)%,但因溶样困难和试剂空白高等,高纯氧化铝采用这种方法分析是困难的。有人用蒸发光谱法测定氧化铝中杂质,灵敏度较高,但需一套特殊的蒸发设备,且只能分析Cd、Bi、Sb、Pb,Sn、Cu等较易挥发的元素。为寻找一种简便灵敏的直接光谱法,研究了谱线在直流电弧中的轴向强度分布,并拟定了一个阴极激发,阴极区照相
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