作者： 单位：中国电子科技集团公司第二十六研究所 出版：《压电与声光》1980年第05期 页数：5页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFYDSG1980050140 DOC编号：DOCYDSG1980050149 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • (一)单晶和薄膜材料208 提拉法晶体生长中转动的影响——(Riley N.)《Jour.Cryst.Growth》47 4557—67 1979提出了一个从熔体生长单晶时有关晶体及坩埚转动影响的模型，按许密特数求解，并研究了晶体-熔体界面上影响生长的条件。

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