《用静电电容式位移计测量硅片厚度及定位》PDF+DOC
作者:小柳善树,王宗洪
单位:中国计量科学研究院;中国合格评定国家认可中心
出版:《中国检验检测》1984年第02期
页数:3页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFXDJL1984020090
DOC编号:DOCXDJL1984020099
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1.前言目前,实用性的非接触位移计有静电电容式、涡流式、光波式和声波式。其中静电电容式非接触位移计可以用来测量导体和半导体。由于这利:测量不受导体或半导体固有性质和表面状态的影响,容易获得高精度效果,所以静电电容式非接触位移计应用相当广泛。在实际工作中,用它可以测量铁、铝和黄铜等金属,
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