作者：Jeffrey A ,古月 单位：四川固体电路研究所 出版：《微电子学》1986年第01期 页数：6页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFMINI1986010120 DOC编号：DOCMINI1986010129 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 长期以来，对工艺气体的纯度一直使用分析仪进行检测。最近，为了确保高密度微电路在制作中所用的超高纯气体的需要，对仪器制造厂家提出了制造能提供微量气体沾污进行连续、在线，实时监视的设备要求。传统的测量方法和气体气析技术正在得到改进，以适应工艺中的这些要求。

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