作者：余承杰 单位：中国电子科技集团公司第二十六研究所 出版：《压电与声光》1986年第05期 页数：10页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFYDSG1986050050 DOC编号：DOCYDSG1986050059 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑
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    • 本文主要叙述最近一个时期发展的新型压电薄膜及其在SAW方面的应用。除了CdS，ZnO，A1N之外，最近又出现了两种有希望的压电薄膜材料，取向性Ta_2O_s膜和剪切ZnO膜。前者具有高的化学稳定性和时间稳定性，而声学特性相当于ZnO压电膜。后者具有高的耦合系数，低的声速，好的温度稳定性。 另外，还概述了近期报导的其他类型薄膜及应用。其中包括：电发光薄膜、电色薄膜、透明导电膜、传感器用薄膜、铁电薄膜等。

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