作者：张树干 单位：中国科学院上海光学精密机械研究所 出版：《激光与光电子学进展》1986年第03期 页数：3页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFJGDJ1986030100 DOC编号：DOCJGDJ1986030109 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 由于市场上高功率工业加工用激光器数量的不断增加，必须生产在几千瓦功率水平下能可靠而长期运转的激光卡计。工业界已经生产了几种商用型二次辐射计，但是它们大部份都需要重复标定，且只能测量远低于6千瓦的连续激光辐射。本文报导了新型激光卡计的设计，它可以接收几百到几千瓦以上的入射辐射。另外

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