作者：庄永芳,冯伟明 单位：上海磨床研究所 出版：《精密制造与自动化》1987年第02期 页数：4页  （PDF与DOC格式可能不同） PDF编号：PDFSCYM1987020160 DOC编号：DOCSCYM1987020169 下载格式：PDF + Word/doc 文字可复制、可编辑

    • 目前，随着精密机械和精细技术的发展，对微小位移的测量已进入毫微米领域，精度和分辨率要求越来越高，并且希望使用环境不太苛刻、价格低廉、操作简便。电容测微在这方面很有潜力，以往在实验室条件下，有的分辨率达到0.1(?)，有的精度在100mm测量范围达0.04μm，有的稳定性方面达到每天漂移10~(-9)mm，只是由于一些弱点，影响其广泛应用。近年来，由于一些新技术、新电路的出现，电容测微又得到迅速发展，相比之下，我国在这

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