《关于硅压阻型圆膜片式压力传感器光刻掩模版的设计方案》PDF+DOC
作者:曹洪清
单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
出版:《半导体技术》1985年第02期
页数:7页 (PDF与DOC格式可能不同)
PDF编号:PDFBDTJ1985020010
DOC编号:DOCBDTJ1985020019
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压阻效应的历史是从一九三○年对金属的应力——形变特性研究开始的.Smithis于一九五四年开始报导硅与锗的压阻效应理论.而后,美国人首先于六○年前后在这种理论的应用研究方面取得可喜成果.六○年九月,加利福尼亚州的“利登”公司研制出“轻型中央大气数据计算机系统”(歼击机:H=2440~M,M=0.2~2.5),该“系统”可同时而准确地给机上导航、发动机、火控与飞行控制系统提供多种大气信息.而且,各系统均可获得较满意的控制品质。
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